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重庆液晶面板低成本光刻工艺取得突破
重庆液晶面板低成本光刻工艺取得突破
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摘要
中国科学院重庆绿色智能技术研究院近日成功研制了用于微电子光刻的“2~12英寸UVLED平行光曝光模组”及用于PCB、液晶面板和触摸屏等光刻装备的“5kW、8kW、10kW汞灯替代UVLED光源模组”系列产品。
DOI
7dm1wpgvdn/1700854
作者
机构地区
不详
出处
《新材料产业》
2017年2期
关键词
光刻工艺
液晶面板
重庆
低成本
光源模组
中国科学院
分类
[一般工业技术][材料科学与工程]
出版日期
2017年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
新材料产业
2017年2期
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