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Effects of Substrate Pretreatment Conditions on Quality of GaN Epilayer

简介：ThepurecubicGaN(c-GaN)hasbeengrownon(001)GaAssubstratesbyECR-PAMOCVDtechniqueatlowtemperatureusingTMGaandhighpureN2asGaandNsources,respectively.TheeffectsofsubstratepretreatmentconditionsonqualityofcubicGaNepilayerareinvestigatedbythemeasurementsofTEMandXRD.Itisfoundthathydrogenplasmacleaning,nitridationandbufferlayergrowthareveryimportantforqualityofcubicGaNepilayer.
标签：氮化镓立方体氢等离子体渗氮缓冲层

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