简介：薄膜厚度的测量通常有多种方法，但对超薄的膜厚，要达到较高精确度，且测量手段又较为简洁的，则椭偏仪法是理想的选择。本文对这种测量材料膜厚的光学方法从基本原理、仪器特点、测量过程、样品状态等方面，均作了全面的分析。

简介：SF6气体以其优异的电气和理化性能成为优良的绝缘和灭弧介质，在输变电领域中得到普遍应用的同时，也大量应用于其他高压电器中，加速器就是其中之一。工业用加速器大多运行在几百千伏到几兆伏的范围，电压等级相对于普通输变电设备要高，对于绝缘的要求也更严格。加速器设备运行时，不存在雷电冲击及操作过电压的问题，在设计中，主要考虑稳态电压下的气体绝缘特性。对不同气压SF6气体在端面不同曲率半径的环形电极下的直流击穿电压进行了实验研究。

简介：溶胶界西层厚应通常是用Porod法对高角区负偏离的队Porod曲线进行拟合求算，但本文研究表明还可通过分别测定Porod负偏离校正前后体系粒子的平均阗径之差而获得平均界面厚度。应用上述方法测定了在不同制备条件下制备的二氧化硅溶胶的平均界面厚度。

简介：利用传输矩阵法理论，研究介质光学厚度对一维光子晶体（AB）5（ACB）2（AB）5缺陷模的影响，结果表明：随着介质A、B或C的光学厚度按奇数倍、偶数倍增大时，光子晶体主禁带中的缺陷模均向禁带中心移动，出现缺陷模向禁带中心简并的趋势，且光学厚度按奇数倍增加时简并的趋势更明显，同时缺陷模移动速度以A介质光学厚度奇数倍增大时为最快；当介质A、B或C的光学厚度按奇或偶倍数增大到一定数值时，均出现对称分布于禁带中心两侧的新缺陷模，而且光学厚度按偶数倍增大时出现的新缺陷模要比偶数倍增大时的快。介质光学厚度对光子晶体缺陷模的影响规律，对光子晶体设计窄带多通道光学滤波器件、高灵敏度光学开关等具有积极的参考意义。

简介：利用Geant4工具包,采用强迫碰撞方法,模拟氘氚聚变中子与反冲质子法脉冲中子探测系统中的聚乙烯靶作用产生反冲质子的过程,计算了反冲质子在不同厚度Si-PIN半导体探测器灵敏区中的能量沉积谱,并将模拟计算结果与实验结果进行比较,分析给出了探测器灵敏区厚度。结果表明,计算得到的探测器灵敏区厚度与探测器灵敏区真实厚度在3%以内吻合,证明了模拟计算方法的可行性。同时,还计算了不同厚度的铝吸收片条件下,反冲质子在探测器灵敏区内的能量沉积,得到了沉积能量随铝吸收片厚度的变化曲线,可为反冲质子法脉冲中子探测器系统设计提供参考。

简介：提出了一种利用薄膜反射光谱包络线法计算光电薄膜光学常数和厚度的方法。当一束光照射在基板上的介质膜上时，由于薄膜上、下界面反射光的相干，会使反射光谱的曲线有一定的波动。本文对反射光谱进行了理论分析，给出计算公式，从测量曲线中的实验值得出薄膜的厚度和光学常数。此种方法计算过程简单、迅速，而且易于编程处理。

简介：薄膜厚度的测量是薄膜科学的重要分支之一，本文讨论用迈克尔逊干涉仪观察白光等厚彩色干涉条纹方法，从而确定薄膜的厚度和折射率，该方法的优点是测量精度高，原理简单，在一次测量过程中可同时确定薄膜的厚度和折射率。