简介:用C3H6作为碳源气,Ar作为稀释气体和载气,TaCl5为钽源,采用化学气相沉积法(chemicalvapordeposition,CVD)在高纯石墨表面制备TaC涂层。采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)等对涂层进行表征,研究1000℃下稀释气体(Ar)流量对TaC涂层成分、织构及表面形貌的影响。结果表明:随着稀释气体流量增大,表面均匀性和光滑度提高,晶粒尺寸减小,晶体择优取向降低,沉积速率减小,涂层中C含量增多。当稀释气体流量为100mL/min时,TaC涂层晶粒尺寸与沉积速率分别为32.5nm和0.60μm/h;而当稀释气体流量增大到600mL/min时,涂层晶粒尺寸与沉积速率分别下降到21nm和0.25μm/h。
简介:资源型企业日益认识到,在日益竞争激烈的国际资源市场上,成功的人力资源管理可以帮助企业实现有效规避风险、改善企业绩效等目标。但是企业运营中不可避免地存在着人力资源管理风险,为了提出有效的解决之道,文章首先介绍了企业人力资源管理风险的定义、特点及主要种类;之后简要归纳现阶段我国资源型企业在跨国经营中存在的六种主要风险,着重介绍了人力资源管理风险;最后通过考察英美资源集团有限公司海外资源产业项目中所采用的一些风险规避策略,认为我国资源产业在实施"走出去"战略,参与国际资源型产业项目中应着重注意三个方面:明确标准、科学招聘;强调育人、重视培训;赏罚并举、有效激励。