简介:CharacteristicsofsiliconoxynitridesmadebyECRplasmas;CharacterizationandcomparisonofPECVDsiliconnitrideandsiliconoxynitridedielectricforMIMcapacitors;CharacterizationofsiliconoxynitridethinfilmsdepositedbyECR-PECVD;Characterizationofsiliconoxynitridesandhigh-kdielectricmaterialsbyangle-resolvedX-rayphotoelectronspectroscopy
简介:[篇名]3-inchfull-colorOLEDdisplayusingaplasticsubstrate,[篇名]AsignificantimprovementinmemoryretentionofMFISstructurefor1T-typeferroelectricmemorybyrapidthermalannealing,[篇名]Accuratereliabilityevaluationofnon-uniformultrathinoxynitridcandhigh-klayers,[篇名]Advancedgatedielectricmaterialsforsub-100nmCMOS,[篇名]AINfilmscpitaxialyformedbydirectnitridationofsapphireusingaluminumoxynitridcasabufferlayer,[篇名]Amorphoussilicon-oxynitridcsubmicronfibres,[篇名]CharacteristicsofCr-Al-N-Othinfilmspreparedbypulsedlaserdeposition.
简介:面罩主体是供氧面罩中一个十分重要的橡胶件,其形状曲折复杂,厚度变化大,最薄处仅为0.7mm,面罩主体裙围需与人的脸部造型完全吻合。通过对面罩主体的形体分析,在裙边与裙围转接处存在着弓形高“障碍体”,橡胶模便采用了二次分型的方法,使得凸模与凹模及凸模与中模都能够分型,成型面罩主体型腔的中模,是一个大的凸台“障碍体”。面罩主体的脱模,是利用了硅橡胶面罩主体的弹性,采用了手工剥离或吹入压缩空气使其膨胀脱模的形式。在距凹模模腔0.2mm的沿周,制有1.5mm×90°的余胶槽,余胶进入余胶槽中形成飞边,凹槽边缘与型腔边缘所形成的0.20mm刃口,当面罩主体压制后脱模时,飞边能自动被刃口切落。模具结构的形式,实现了面罩主体顺利成型和脱模及飞边的处理。
简介:耳前,原子氧剥蚀效应研究仍然是空间环境效应研究中最活跃的方向之一。在概括地介绍低地球轨道环境的同时,分析了铝在原子氧环境中的氧化行为、氧化膜的形成机理和氧化铝膜的破裂等情况。基于离子溅射效应已经广泛应用在现代工业和科学研究中,分析当前溅射产额研究状况,采用半经验公式和TRIM程序计算铝被原子氧和离子氧轰击后的溅射产额和腐蚀速度,并与重离子He离子、Ar离子、Fe离子轰击Al的溅射产额比较;分析发现在原子氧环境中,离子对铝材料溅射同样满足溅射产额的变化规律;最后提出铝在原子氧环境中的防护方法。通过上述的分析和研究,得出了相关性的结论、展望和存在的问题。
简介:利用电化学阻抗谱(EIS)方法研究了AF1410钢试样表面在只涂有1层H06-076环氧底漆状态下的腐蚀情况。试验过程采用了加速环境谱。结果表明:AF1410材料在只涂1层H06-076环氧底漆的情况下其抗腐蚀性能较差,尤其在拐角处封漆不好,介质容易从拐角处进入漆层与基体交界面,引起基体材料腐蚀。EIS方法可提前表征有机涂层涂覆下的金属腐蚀行为并评估有机涂层的防护性能。EIS中0.1Hz处的阻抗模值与10Hz处的相位角变化规律一致。