简介:随着人工智能应用领域不断拓展,对经济社会的影响也伴随而来。人工智能与互联网等科技既有相同也有不同,其难以预测、难以解释的特点可能引发较大的社会治理问题,需要提前订立规则,尤其是在产品界定和准入、算法歧视、产品责任、隐私保护等方面。目前,各国均高度重视人工智能治理问题的重要性,不仅纷纷出台国家战略和报告,还在自动驾驶、智能投顾等领域加快了治理规则的探索。我国也于2017年7月发布了《新一代人工智能发展规划》,特别指出了人工智能技术的发展对法律、伦理、隐私、国际规则等方面的影响,提出了重点任务和3个阶段的发展目标。关于人工智能的治理,笔者建议监管者、企业和用户应保持头脑冷静,聚焦真正由人工智能技术带来的治理问题,根据技术发展阶段和路线确定治理思路,加强对经济社会影响的评估,解决当前发展面临最为急迫的障碍,同步考虑未来可能出现的前瞻性问题。
简介:介绍了—种快速填盲孔电镀铜工艺,镀液的基本墨目成和工艺条件是:CuSO4·5H3O210g/L,H2SO485g/L,Cl-50ng/L,湿润剂C(环氧乙烷与环氧丙烷缩聚物)(5-30)ml/L,整平剂L(含酰胺的杂环化合物)(3~16)ml/L,加速剂B(苯基聚二硫丙烷磺酸钠)(0.5-3)ml/L,温度23℃,电流密度1.6A/dm2,阴极摇摆15回/min或空气搅拌。研究了湿润剂C,整平剂L和加速剂B对盲孔填孔效果的影响,结果表明湿润剂C与加速剂B用量对填孔效果影响较大,而整平剂L影响较小。加入适量的该添加剂体系到基础镀液中,常规的HDI盲孔(孔径100μm~125μm,介质厚度75um)在表面镀层厚度12μm-15μm时,可以实现填孔率大于95%,得到铜镀层的延展性和可靠性满足印制电路板技术要求。此外,本研究测定了该添加剂体系填孔过程,明确其药水爆发期在起镀的(15~20)min,而且爆发期期间孔内的沉积速度是表面的至少11倍。