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  • 简介:<正>据《SolidstateTechnology》2003年第3期报道,美国北卡州三角研发园区的Ziptronix公司新开发了不同半导体界面材料的键合技术,将微机电系统(MEMS)和声表器件(SAW)进行全封装。这一工艺技术进行各种灵活且低成本的设计,并使MEMS与IC技术匹配,而无需复杂的结构、测试和组装,这一工艺技术约占MEMS元件成本的

  • 标签: 晶圆级封装 MEMS 键合技术 微机电系统 半导体界面 工艺技术
  • 简介:STATSChipPAC、ST和Infineon日前宣布,在英飞凌的第一代嵌入式球栅阵列(eWLB)技术基础上,三家公司将合作开发下一代的eWLB技术,用于封装未来的半导体产品。通过Infineon对ST和STATSChipPAC的技术许可协议,主要研发方向是利用一片重构的两面,提供集成度更高、接触单元数量更多的半导体解决方案。

  • 标签: STATS 封装工艺 合作开发 晶圆 半导体产品 技术基础
  • 简介:在军用电子元器件和民用消费类电路中,电子封装均起着举足轻重的地位。当今社会,电子技术日新月异,集成电路正向着超大规模、超高速、高密度、大功率、高精度、多功能的方向迅速发展,对集成电路的封装技术提出了愈来愈高的要求,使得新的封装形式不断涌现,新的封装技术层出不穷。文中介绍了一种新型的封装发展趋势——封装技术,主要详述了封装的概念、技术驱动力,列举了主要厂家封装技术的应用情况。

  • 标签: 集成电路 圆片级封装 概念 发展趋势
  • 简介:ShellCase公司的封装技术工艺,采用商用半导体片加工设备,把芯片进行封装并包封到分离的腔体中后仍为片形式。芯片尺寸封装(WL—CSP)工艺是在固态芯片尺寸玻璃外壳中装入芯片。玻璃包封防止了硅片的外露,并确保了良好的机械性能及环境保护功能。凸点下面专用的聚合物顺从层提供了板可靠性。把凸点置于单个接触焊盘上,并进行回流焊,片分离形成封装器件成品。WL—CSP封装完全符合JEDEC和SMT标准。这样的芯片规模封装(CSP),其测量厚度为300μm-700μm,这是各种尺寸敏感型电子产品使用的关键因素。

  • 标签: 苯丙环丁烯 凸点技术 CSP 光学封装 可靠性 圆片级CSP
  • 简介:摘要:扇出型封装在集成电路封装中受到越来越多关注,也被认为是延续和超越摩尔定律的关键技术方案。根据扇出型封装的工艺,本文详细介绍了扇出型塑封在先进封装工艺中的节点,从技术、应用和市场方面分析了扇出型塑封目前的研究成果以及成型技术对制品性能的影响。

  • 标签: 扇出型晶圆级塑封 压缩成型 塑封热点
  • 简介:全懋非常看好绘图卡从BGA封装进入覆封装的趋势。全懋自估2004年第四季的单月平均出货量约150万颗,10月份覆载板的出货量仅100万~110万颗,11月仅小幅增加到140万~150万颗,但12月出货量倍增到250万颗,预估2005年首季出货量将更为可观。再者,未来可随载板厂在制程能力的大大提升,

  • 标签: 出货量 覆晶封装 趋势 增加 倍增 提升
  • 简介:中美日前宣布,完成总额约90亿元的银行联贷案,主要用做收购日商Covalent半导体事业资金。中美表示,这次银行联贷案,由中国信托等银行共同筹组,中美分两项承贷。第一项由中美代表借款62亿元,第二项为中美日本子公司GWafersInc.代表借贷77.5亿日,合计共约90亿元资金。这次联贷将用来收购日商Covalent半导体事业。

  • 标签: 半导体 晶圆 收购 台湾地区 银行 资金
  • 简介:摘要:本文主要探究硅切割工艺。研究过程中,以激光隐形切割工艺为例,选择8寸硅,厚度450µm,99.9%纯硅为试验材料,光纤激光器为试验设备,结果表明激光功率、焦点位置、激光频率、光板重叠率、速度及加工次数均会影响切割效果,需结合实际情况,设置切割参数,从而为相关工作者提供参考。

  • 标签: 硅晶圆 激光切割 切割工艺
  • 简介:摘要:清洗技术的原理是利用化学、物理或生物等作用,去除表面的有机物、无机物和金属杂质,提高的表面粗糙度和清洁度。清洗技术是半导体制造过程中的重要环节,它直接影响了的质量和性能。本文结合国内外学术文献信息,对清洗技术的原理、方法、应用和发展趋势进行了分析,为清洗技术的应用研究提供了更多参考信息。

  • 标签: 晶圆清洗技术 应用路径 技术原理
  • 简介:建立在众所周知的原理基础上的热激光切割技术(thermallaserseparation,TLS)用于切割脆性材料。应用范围包括切割显示器玻璃(包括层状玻璃)、浮法玻璃生产线上的玻璃边缘、氧化铝陶瓷等。与其他的激光技术比较,用TLS取代机械法切割有诸多优点。本文论述了TLS在切割半导体硅片领域的应用。

  • 标签: 激光切割技术 浮法玻璃生产线 晶圆 氧化铝陶瓷 半导体硅片 脆性材料
  • 简介:摘要

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  • 简介:<正>近日,台湾环保署增订石化业、石化专区污水下水道系统、制造及半导体制造业放流水标准,将氨氮、含氯或含苯等6项挥发性有机物以及DEHP等6项塑化剂列入管制。环署预估,将减少4000吨的氨氮排入河川水体,并可督促厂商谨慎处理含氯和含苯等致癌性较显著化合物、与加强制程废溶剂源头的管理。新增标准将管制石油化学业的河川与海洋管线放流水,其中苯、氯乙烯等6项挥发性有机物质,及DEHP、DNOP、DMP、DEP、DBP、BBP等6种塑化剂的含

  • 标签: 半导体业 晶圆制造 水标准 谨慎处理 半导体制造业 放流