简介：利用磁控溅射法在不同条件下制备了玻璃基TiO2薄膜样品,分别研究了衬底温度、工作气压、氧氩比等对TiO2薄膜亲水性的影响,得到最佳工艺参数,并对此参数下薄膜的亲水性、均匀性、晶相等进行了表征。

简介：目的以粉末冶金烧成的羟基磷灰石（HA）／[3．磷酸三钙（β-TCP）陶瓷为靶材，采用磁控溅射法在钛合金（Ti6A14V）基体上制备HA／β-TCP生物涂层。方法利用XRD研究了复合涂层的晶化程度，讨论了涂层成分与生物降解性及相容性的关系。结果HA／β-TCP生物涂层为非晶态，经700℃，3h大气处理可显著提高涂层的晶化程度，当涂层成分为50wt％HA／50wt％β-TCP时其细胞相容性最好。结论在钛合金基体上制备HA／β-TCP生物涂层，通过HA与β-TCP的复合来控制材料的降解速度，使它的降解速度与周围骨组织的生长速度相匹配，使植入体具有良好的生物降解性、生物活性和力学性能。

简介：采用射频磁控溅射法在医用钛表面制备羟基磷灰石（HA）涂层，研究HA涂层的形貌、物相、力学性能、细胞相容性和在机体内的组织相容性，分析其在骨修复中应用的可能性。结果表明：射频磁控溅射法制备的钛基HA生物涂层呈粗糙岛屿状结构，HA平均粒径为（40？2）nm、厚度为1.0~1.6μm的涂层力学性能最好，其纳米硬度高于11GPa，弹性模量大于136GPa；HA涂层可促进成骨细胞增殖，成骨细胞粘附于HA涂层表面并形成伪足铺展生长；植入实验动物体内4周后材料表面被结缔组织覆盖，血管形成；植入12周后，骨小梁形成，其内部可见破骨细胞；植入12周后与植入前相比，涂层的结合强度未发生显著变化。说明该HA涂层具有较高的成骨活性和稳定性，在骨修复方面具有良好的应用前景。

简介：在不同的溅射功率和溅射时间下，使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si／Fe（P1W，T1s）和Si/[Fe（P2W，T2s）／NiO（P3w，T3s）]10。利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布，并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率。实验结果表明，在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系。

简介：摘要本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析，结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨，以及利用ANSYS软件对磁控溅射靶磁场的分布及其相关参数作二维的模拟与分析，对影响磁控溅射磁场分布和磁场强度的主要素和作用机制作详细的分析，以为优化磁控溅射靶的设计，达到正常溅射工作对靶材表面磁场分布及大小的要求提供借鉴与参考。

简介：用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜。利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析。XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的晶格常数（a=4.0862F）一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显。

简介：摘要：通过对 阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述，并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。 通过对该设备进行镀膜工艺的处理，以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。

简介：摘要：我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜（简称PVD）和化学气相沉积镀膜（简称VCD）。物理气相沉积镀膜主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别，简而言之，镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。

简介：介绍了磁控阴极溅射系统的工作原理和故障维修。

简介：

简介：为保证制造精度,对机械加工后的聚氨酯泡沫塑料制件,采取镀前表面封闭处理、刮涂腻子、喷涂底漆和磁控溅射镀不锈钢的工艺路线;井对过程中主要工艺参数控制特别是铰膜的温度控制作了详细的研究。

简介：

简介：[摘要]全自动磁控溅射的镀膜设备，属于单靶单腔，不但能够将以往传统磁控溅射的镀膜设备所潜在靶间污染相关问题有效处理好，且以高真空的机械手实施传送片作业，工艺腔室当中真空破坏得以减少，可实现高效化地生产作业，工作效率总体提升显著。故本文主要探讨全自动磁控溅射的镀膜设备与其工艺，仅供业内参考。

简介：摘要采用X射线衍射分析(XRD)测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大,且C轴取向显著增强。测试结果表明适当的退火处理对ZnO薄膜的结晶品质有明显的改善。

简介：摘要采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为500℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长。

简介：“磁控溅射离子镀膜技术产业化项目”是渐江省临安市2005年最大的一个外资项目，由浙江汇锦集团和英国梯尔公司合资组建而成的，由汇锦梯尔镀层科技有限公司负责实施。注册资本1200万美元，总投资35639万美元。据初步估计，该项目投产后，年销售收入为9．7亿人民币，可创税利1亿元以上。

简介：[摘要]高真空多靶的磁控溅射镀膜设备，其主要应用于磁性金属各种合金薄膜制备当中，以基底部位旋转溅射及共聚焦等方式为主，将150*150mm各类合金薄膜有效制备出来。为充分把握该设备具体研制情况，便于今后更好地推广及使用该设备，本文主要探讨高真空多靶的磁控溅射镀膜设备研制，期望可以为后续更多技术工作者和研究学者对此类课题的实践研究提供有价值的指导或者参考。

简介：摘要：高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS)，属于薄膜制备中比较先进的一项技术手段，在实际应用过程中往往会表现出比较独特的物理特征，因此，需充分掌握这些物理特性，这对于未来在科学研究和工业应用中，合理且高效地运用此项技术，以实现薄膜产品的高效制备，具有至关重要的意义。鉴于此，本文采取文献检索法，通过检索整理与本次论文相关的文献资料，作为此次论文研究重要的理论基础。本文主要先简要介绍了HiPIMS，而后，从电源特性、放电特性方面入手，对HiPIMS基本过程特征开展物理分析，旨在为业内相关人士提供参考。

简介：

简介：在Si／SiO2衬底上将磁控溅射镍膜作为催化剂，利用化学气相沉积制备了大面积连续的石墨烯薄膜，得到的石墨烯为1～15层。将石墨烯薄膜迁移到玻璃衬底和Si／SiO2衬底上，测量了薄膜的可见光透过率和薄膜电阻，并讨论了石墨烯作为透明导电电极在光电器件上的应用。