简介:目的研究上颌第一前磨牙根尖区根管横截面的形态。方法选择15个上颌第一前磨牙(单根牙11个,双根牙4个),利用Isomet低速金刚砂切片机,在距解剖根尖1、2、3、4、5、6mm处垂直牙体长轴切割。然后在牙科手术显微镜下,利用PhotoshopCS8.0软件测量各截面根管的颊舌径和近远中径,按标准记录根管横截面的形态。结果共获得切片111个,根管共138个,其中长椭圆形根管发生率为42.0%。单根管牙的颊舌径大于近远中径,以长椭圆形根管形态为主,其发生率向根尖降低;双根牙的颊根管颊舌径大多小于近远中径,但腭根管颊舌径均大于近远中径,长椭圆形根管发生情况更复杂。结论上颌第一前磨牙根尖区根管横截面形态复杂,可能影响根管治疗的质量。
简介:目的:比较单个上前牙拔牙后即刻种植与经牙槽嵴保存后延期种植愈合4个月后的效果。本试验中,种植体以至少35Ncm扭矩植入,即刻无咬合负重。材料和方法:106名需要上颌左右第二前磨牙之间任意一个牙位拔牙后即刻种植牙的患者,在拔牙后颊侧骨缺损与腭侧相比小于4mm。患者根据平行组设计在3个中心被随机分为即刻种植组(immediategroup,54名患者)和延期种植组(delayedgroup,52名患者)。延期种植组的患者牙槽骨用无机小牛骨覆以可吸收胶原膜保护。种植体与骨的间隙用无机小牛骨充填,其中17名患者并未采取此措施。拔牙窝保存4个月后,延期种植体被植入。以至少35Ncm扭矩植入的种植体植入后即安装无咬合接触的临时冠,4个月后行最终修复。结果从失败率、并发症、美学评价(pinkestheticscore,PES)及患者满意度等方面考虑,由单盲的评估员记录。所有患者均随访至负重后4个月。结果:由于某些患者种植时不能达到35Ncm的扭矩,即刻种植组中的19个(35%)种植体以及延期种植组中的39个(75%)种植体没有即刻负重。没有患者退出。即刻种植组中2例失败,延期种植组中没有失败病例。与延期种植组(1)相比,即刻种植组(8)出现了较多的小并发症,这一结果具有显著性差异(P=0.032)。在最终冠修复4个月后,即刻种植组与延期种植组的美学评分分别为12.8和12.6。在美学评价上,两组没有显著性差别,患者满意度亦是如此。结论:与延期种植相比,即刻种植出现较多的并发症。美学评价在两种方法中并没有明显的差别。同时,拔牙窝用无机小牛骨预先保存的患者有可能在种植时难以使用较大的扭矩。
简介:临时性支抗装置(TADs)的应用扩展了固定矫治器的牙齿移动范围。正畸微种植体支抗就是临时性支抗的一种,已被成功用于矫治各种类型的牙齿移动,如前牙的整体回收,牙齿伸长.牙弓前突.甚至是压低上颌磨牙。尽管如此,由于解剖因素的限制.正畸微种植体支抗对于压低下颌磨牙的作用仍存在一定困难。骨性支抗系统(SAS),作为另一种形式的临时性支抗.突破了解剖因素的限制使下颌磨牙压低成为可能。以下所呈现的这个病例展示了利用单侧骨性支抗系统压低两颗下颌磨牙.并伸长同侧一颗上颌磨牙.以建立稳定的殆平面。下颌磨牙的压低量通过曲面体层放射线片来评估,下颌左侧第一磨牙和第二磨牙以耠平面为参考分别被压低了1.6mm和2.5mm。
简介:目的探讨大鼠咬合垂直距离升高(iOVD)动物模型的可重复更好的建模方法,及OVD升高对大鼠牙体牙周、颞下颌关节及全身体重的影响。方法60只成年Wistar大鼠.平均分为对照组和iOVD组(双侧上颌后牙戴1.5mm咬合板).运用修复技术完成iOVD咬合板的制作和黏结,分别在实验3天、1周、2周、3周、4周处死动物。观察项目包括体重分析、头侧位X线片、头颅标本解剖、下颌磨牙区骨段及髁状突组织学切片观察等。结果两组大鼠体重增长差异无统计学意义(P〉0.05)。头侧位X线片示iOVD组大鼠髁突位置前移。上切牙腭侧磨耗面发生改变。iOVD组大鼠磨牙根分又区牙槽骨及髁状突中后区软骨出现组织学形态改建。结论采用修复技术可成功建立成年期大鼠咬合垂直距离升高动物模型.咬合板的戴入引起了牙体牙周组织和颞下颌关节髁状突软骨的组织适应性改建.但对全身营养摄入无影响。
简介:目的:比较三种机用镍钛锉WaveOne等对老年人牙髓根尖周病的磨牙进行一次性根管治疗术的临床疗效分析。方法:按照门诊就诊顺序随机将167例老年患者180颗诊断为牙髓坏死、急慢性牙髓炎或慢性根尖周炎的磨牙平均分为3组,每组60颗,分别为WaveOne组,Protaper组和K锉组。三组病例均采用一次性完成根管治疗,其中机用WaveOne组和Protaper组采用冠向下法进行预备根管,而K锉组采用逐步后退法。WaveOne组,Protaper组采用大锥度牙胶尖和AHplus根充糊剂冷侧压法充填根管;K锉组采用相应的标准牙胶尖和AHplus根充糊剂冷侧压法充填根,比较不同器械和不同根管预备方法完成根管治疗所需的时间以及患者术后24h、48h、72h及7天的疼痛反应。结果:三组间根管预备时间的差异有统计学意义(P〈0.001),其中WaveOne组用时最短(2.51±0.60min),K锉组用时最长(9.53±0.65min);WaveOne组根管充填恰填率为93.3%,Protaper组恰填率为90.0%,K锉组恰填率为83.3%;术后24h及48h,三组间疼痛值差异有统计学意义(P〈0.05);而72h及7天三组间差异无统计学意义(P〉0.05);但四个时间点,WaveOne组与Protaper组相比均无统计学差异(P〉0.05)。结论:老年患者牙髓根尖周病的磨牙采用WaveOne镍钛器械进行一次性根管治疗术,省时高效,减少复诊次数,增加患者依从性,值得推广。
简介:目的探讨数字化成像系统对上颌第一磨牙近中颊根第二根管(MB2)偏移投照的最佳显示效果和拍摄方法.方法选取临床上需要进行上颌第一磨牙牙髓治疗并具有MB2根管特征的患者200例.在分角线投照法的基础上,以转动轴作标记记录水平角度,其中100例从远中至近中每偏移10°进行投照,50例使用不同的曝光时间,50例平移传感器位置进行投照.由两位医师独立阅片,判断牙根区分情况、清晰度及构图完整性.采用SPSS16.0软件包进行配对计数资料的χ2检验.结果在MB与MB2区分率中,远中偏移30°组最高,区分率为94%,显著高于正位组的10%(χ2=84,P=0.000),相同偏移角度远中偏移比近中偏移区分率更高(30°:χ2=18.382,P=0.000;20°:χ2=16.282,P=0.000;10°:χ2=14.019,P=0.000).根尖清晰度方面近中偏移比远中偏移低(30°:χ2=7.848,P=0.005;20°:χ2=12.033,P=0.001;10°:χ2=14.700,P=0.000).当近中偏移超过20°、曝光时间增加1/4时清晰率可达78%,传感器的平移摆放使牙体及根尖区的完整显示率达94%.结论要获得良好的MB2显示效果,X线中心线向远中偏移为首选,若选择向近中偏移则需加大偏移角度和曝光时间,传感器的正确摆放也是直接影响图像质量的关键.