简介:应力控制技术的目的是研究大口径元件装校和安装过程中引入的应力对面形的影响以及相应的控制方法,实现应力控制装校,尽可能校正上述3种原因造成的面形误差。利用Ansys软件建立反射镜和晶体的装校应力与面形关系模型,建立模拟实验平台,验证理论模型,寻找最优化的装校方案,形成应力控制装校技术的工艺指导文件。
简介:Ⅱ型终端组件由窗口、晶体、透镜、过渡段4个模块组成,直接与靶室相连,是整个原型装置非常重要的组成部分,它的装校精度直接影响原型装置三倍频输出能力。Ⅱ型终端组件最终装校精度主要取决于透镜的精密定轴和晶体最佳匹配角的离线精确测量。目前,重新开展对终端组件精密装校工艺研究和流程设计,目的是改进原有装校方式,降低晶体装配中的应力,同时根据今年试验的需要制定符合两种不同取样方式的精密装校工艺流程。
简介:为满足复杂航天光学系统对精度的要求,克服传统基准传递技术与计算机辅助装调技术对多于3片反射镜的复杂光学系统进行装调时存在的局限性,提出了两种技术相结合的装调方法。采用提出的方法对三镜消像散(TMA)空间相机进行了装调,结果显示:三镜在Y向和Z向的失调量分别由18.651和9.879mm降低到1.036和0.102mm,系统波前差达到全视场平均值1/14λ(RMS)。结果证明:此方法能有效缩短装调时间并达到系统要求的精度指标,对于多镜复杂光学系统装调具有指导和参考价值。
简介:
简介:首次在温和条件下,用在传统微孔沸石合成中常作为导向剂的乙二胺或1,6-己二胺替代NaOH作催化剂合成出SiO2基中孔MCM-41分子筛。合成样品用XRD和N2吸附等温线进行表征。实验结果表明,由于这种替代,使相应合成样品及焙烧样品的中孔骨架结构的有序度明显提高。在XRD图中四个衍射峰清晰可辨,是典型的六方紧密堆积,晶胞参数a0分别为4.11nm和3.75nm,且d100值随所用胺分子中碳链的增长逐渐从3.56nm减少到3.24nm,同时产物孔径由中孔转变为微孔。更多还原
光学元件装校应力控制技术
Ⅱ型终端组件精密装校工艺
计算机辅助装调与传统基准传递技术相结合实现三镜消像散系统的装调
把FIGHTING装兜里——阳光满面的勇气方程式
用乙二胺和1,6-己二胺作催化剂合成中孔MCM-41分子筛(英文)