简介：论述冷却水系统垢层的成因及对设备的影响,只有控制结垢方可安全生产,节约能源。

简介：逻辑音频系统是一个由中央处理器(CPu)、存储器(ROM)、输入输出接口(I／O)和总线(BUS)构成的微控制器(Mcpmaincontrolledunit)系统，因将其集成在一块硅片上，所以叫单片机。因手机要存储的资料太多，就另外开出两存储单元(版本、码片)，但人们依然叫它单片机系统，如图1所示。

简介：尽管大部分的同轴电缆骨干网已由光缆取代,但期待已久的图像质量的本质改善并未在大部分用户的电视屏幕上出现.其主要原因是:(1)信号源本身不良;(2)前端系统不良;(3)光传输系统不良;(4)同轴电缆系统不良.

简介：本文着重介绍了两种IPv6下的MPLS应用，IPv4到IPv6过渡中的MPLS应用（6PE）和BGP／MPLSVPN的IPv6扩展（6VPE）．文中分别从控制层面和转发层面的实现机制上，对两种应用进行了简要阐述和对比分析。

简介：在FSO通信系统中,装置平台的振动对FSO通信系统的误码率有很大的影响,而误码率又直接决定了FSO系统的通信质量.本文分析了当发射光束为高斯光束时,振动对FSO系统误码率的影响.研究发现,装置平台振动的振幅、FSO系统的通信距离对误码率的影响相当大,FSO系统所选用的波长列误码率基本上无影响.

简介：网络对现实世界的冲击可谓是空前绝后，几乎现实世界中可以找到的，在网络世界中都可以找到其对应物：网络经济、电子政务、网络游戏、电子邮件、网络论坛、网络交友，更令人啼笑和深思的是网络婚姻、网络职业代骂、网络游戏职业玩家也层出不穷。现代都市人的生活真的被网络“一网打尽”。

简介：大洋ME提供了功能强大的音频工具，使你不但可以快捷方便的对声音进行剪辑，还可根据节目需要进行声音的加工及润色处理。从本期起，我们分两期介绍音频特效的相关使用。

简介：全国"两会"期间,与会代表针对政府信息公开畅所欲言,关于"实行阳光政务,建设阳光政府"的呼声时有所闻.

简介：本文首先分析了DOCSIS协议中提出的各种多下行网络拓扑结构，然后对实现双下行信道中所面临的各种关键技术进行了详细的讨论和研究，并介绍了CMTS动态无缝切换下行信道的过程，最后得出了一种双下行信道的实现解决方案。

简介：手机品牌众多，其使用的射频芯片型号种类也有多种，下面就按型号来分类，主要对有代表性的芯片作介绍。

简介：阅读是“自下而上’并Ⅱ“自上而下”过程相互作用的交互过程。随着认知心理学和心理语言学的发展，阅读研究中出现了五种主要交互模式：交互激活模式、交互补偿模式、双边合作模式、自动处理模式和语言效率模式。这些模式从不同角度体现了阅读过程的交互性特点。交互性也可以体现为文本语言特征之间的相互关系，即文本互动。

简介：随着电子封装集成度的不断提高，集成电路的功率容量和发热量也越来越高，封装体内就产生了越来越多的温度分布以及热应力问题。文章建立了基板-粘结层-硅芯片热应力分析有限元模型，利用有限元法分析了芯片／基板的热应力分布，封装体的几何结构参数对应力的影响，重点讨论了芯片与粘结层界面上和基板与粘结层界面上的层间应力分布。

简介：

简介：从多媒体通信3G标准WCDMA的基础上介绍了无线通信中的无线资源管理的基本概念，对其信道配置、功率控制、切换控制、负载控制等方面的含义，算法，流程。性能指标等做了具体介绍。使大家可以对无线资源管理有较为深刻的认识。

简介：随着无线通信技术的不断发展，手机的功能也日益强大，目前市场上集摄像头、彩屏、游戏机于一体的移动终端比比皆是。此外，在移动通信与互联网相互融合的大趋势下，加入了移动性的互联网服务也为移动用户带来全新的应用，所以一种既具备手机的通话功能，又融合3C（Computer电脑、Communication通讯、Consumer消费电子）功能的“超级手机”就应运而生。

简介：在HFC上行方向应用QoS技术对于提高上行信道的利用率，对于多媒体业务的传输都有重要意义，本文主要对DOCSIS1.1中的QoS机制和操作进行了比较深入的解析。

简介：全面介绍了目前密集波分复用系统中的主流光滤波技术,包括介质薄膜滤波器、阵列波导光栅、光纤光栅、熔锥器件、奇偶交错滤波器和声光可调谐滤波器,从系统应用的角度分析了光滤波技术的发展趋势.

简介：摘要作为体育教师，不论其专业水平多高，对教材有多么熟悉，经验有多么丰富，在科学飞速发展的今天，在思想无比活跃的学生面前，都必须认真备课才能走进课堂。

简介：在一个竞争优势并不明显的无常世界里,正确制定策略将成为一种生存锻炼。它是体验式的,有更多的情感参与决策过程。如何调试、做自我心理按摩成为经理人所必须面对的新课题。

简介：文章通过对不同设计方式的线路侧蚀进行测试，根据测试结果对不同设计方式的线路使用不同的底片补偿，达到酸蚀后线宽一致的目的，同时还需要考虑工艺制程中对蚀刻因子的影响，如：曝光、显影和蚀刻。