简介:摘要目的了解卵黄管发育异常致婴幼儿脐部渗液性疾病临床治疗效果。方法对56例卵黄管发育异常致婴幼儿脐部渗液性疾病的患儿采用局部硝酸银烧灼治疗、手术切除以及抗生素控制感染等综合疗法。结果在56例病例中,46例脐茸行局部硝酸银烧灼治疗,其中有42例治愈,4例效果不佳患儿局麻下将脐部粘膜切除缝合后治愈;3例带蒂脐茸用丝线结扎根部后脐茸坏死脱落而治愈;5例脐窦患儿静脉麻醉后手术切除,其中4例行腹膜外瘘管切除和脐成形术,1例患儿瘘管较长行开腹手术;2例确诊为脐肠瘘患儿行手术治疗。结论卵黄管发育导致脐部渗液性疾病,以脐茸、脐窦、脐肠瘘较为常见,影响患儿身心健康,增加护理难度,应引起高度重视,及时治疗。
简介:摘要目的探讨研究低渗口服补液盐加锌制剂用于小儿急性腹泻治疗中的临床效果。方法从2015年6月-2016年6月我院收治的急性腹泻患儿中随机选择120例作为研究对象,将其分为组1,组2和组3,每组有患儿40例。对组1的患儿采用口服补液盐进行治疗,对于组2的患儿采用低渗口服补液盐进行治疗,而组3的患儿在采用低渗口服补液盐加锌制剂进行治疗,对比三组患儿的治疗有效率、临床症状的改善时间以及住院的时间。结果在经过治疗之后,组1患儿的治疗有效率为72.5%,组2患儿的治疗有效率为84.7%,组3患儿的治疗有效率为97.5%,通过对比发现组3的治疗有效率要明显高于组1和组2的治疗有效率(P<0.05)。而在脱水程度以及腹泻症状的改善情况方面,组3的改善情况要明显优于组1和组2的改善情况(P<0.05)。结论低渗口服补液盐加锌制剂用于小儿急性腹泻治疗中有良好的临床效果,能有效的提高治疗有效率,值得在临床上进行推广。
简介:摘要:目的 探究胃肠道手术后腹腔引流管周围渗液处理中造口袋的应用效果。方法 选择本院胃肠外科2022年间收治的胃肠道手术患者198例进行研究,均接受腹腔引流,且发生周围渗液。随机数字表法设计两组。对照组,99例,以常规换药敷料处理渗液。观察组,99例,以造口袋处理渗液。比较两组干预效果、并发症发生率以及睡眠质量得分。结果 观察组创口愈合耗时更短,药物更换次数更少(P<0.05)。观察组并发症发生率更低(P<0.05)。观察组睡眠质量得分更高(P<0.05)。结论 胃肠道手术后腹腔引流管周围渗液处理中,造口袋可促进创口康复,减少渗液相关并发症,提高患者睡眠质量,值得推广。
简介:[摘要]目的:一件式造口袋在腹腔引流管管口渗液护理中的应用分析。方法:在2021年2月-2022年3月,我院共收治18例患者,其中男性6名,女性12名,采用经一件式造瘘技术,对患者进行引流。结果:经对18例采用一件式造囊收集引流管周围渗出物的患者,引流管口周围的渗出物全部流入人工造囊中,周围皮肤完整,无发红,无破裂,引流畅通,引流清晰,可以清楚地看到引流液的颜色,未出现任何不良反应及与之有关的并发症。结论:一件式的造口周围渗出物的处置,既能对引流管口附近的皮肤进行保护,又能对引流管内的液体流量和渗出物进行精确的记录,从而改善患者的舒适性。
简介:摘要:目的:观察临床综合护理干预在复杂肝胆胰术后引流管周渗液中的效果。方法:将本院收治的复杂肝胆胰术患者作为研究群体,将术后需进行引流护理的患者归纳出60例展开研究,其中30例接受临床综合护理干预(综合组),余数30例则接受常规术后引流干预(常规组),分别将引流管周患者皮肤潮红、溃烂、疼痛、瘙痒等案例数统计出来,对患者因引流管周渗液引发的皮炎系统的分为1~4度,对患者进行评估。结果:综合组患者因引流管周渗液而诱发系列潮红症状的几率偏低,相应症状发生率为0;皮炎分级中,综合组0度皮炎的诱发率占比高,4度皮炎的诱发率占比低,说明患者经护理后引流管周几乎无渗液,或无明显渗液影响,(P
简介:CharacteristicsofsiliconoxynitridesmadebyECRplasmas;CharacterizationandcomparisonofPECVDsiliconnitrideandsiliconoxynitridedielectricforMIMcapacitors;CharacterizationofsiliconoxynitridethinfilmsdepositedbyECR-PECVD;Characterizationofsiliconoxynitridesandhigh-kdielectricmaterialsbyangle-resolvedX-rayphotoelectronspectroscopy
简介:[篇名]3-inchfull-colorOLEDdisplayusingaplasticsubstrate,[篇名]AsignificantimprovementinmemoryretentionofMFISstructurefor1T-typeferroelectricmemorybyrapidthermalannealing,[篇名]Accuratereliabilityevaluationofnon-uniformultrathinoxynitridcandhigh-klayers,[篇名]Advancedgatedielectricmaterialsforsub-100nmCMOS,[篇名]AINfilmscpitaxialyformedbydirectnitridationofsapphireusingaluminumoxynitridcasabufferlayer,[篇名]Amorphoussilicon-oxynitridcsubmicronfibres,[篇名]CharacteristicsofCr-Al-N-Othinfilmspreparedbypulsedlaserdeposition.