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解析化学机械抛光机机械本体设计

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摘要摘要在科技发展的推动下，我国集成电路制造技术也进入了一个全新的发展阶段，不断的提升了晶圆直径，不断缩小了特征线宽，进而将更高的要求抛向了全局平坦和局部的平坦，因此，为了有效额解决这样的问题，将机械抛光机技术应用到其中是非常必要的。

DOI wjv6zw2k47/3363098

作者彭虎

机构地区彭虎

出处《基层建设》 2015年19期

关键词化学机械抛光机机械本体设计

分类 [建筑科学][建筑设计及理论]

出版日期 2015年12月22日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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