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硅外延片表面“蓝雾”原因分析及研究

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DOI rj879kr740/6114210

作者居斌

机构地区中国电子科技集团公司第四十六研究所，天津 300220

出处《科学与技术》 2022年5期

关键词硅外延片蓝雾 DOE方法

分类 [建筑科学][建筑技术科学]

出版日期 2022年07月10日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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科学与技术

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