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《北京同步辐射装置年报》
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1997年1期
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纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究
纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究
(整期优先)网络出版时间:1997-01-11
作者:
叶甜春;吴沐新;等
核科学技术
>核技术及应用
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资料简介
本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展,其中,最细尺寸已达50纳米。
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本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展,其中,最细尺寸已达50纳米。
来源期刊
北京同步辐射装置年报
1997年1期
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