简介:在研发一套基于0.18μm工艺的全新半导体芯片时,由于芯片工艺的要求我们将标准0.18μm工艺流程中的接触孔蚀刻阻挡层由原来的UVSIN+SION改为SIN,但却引进了PID(等离子体损伤)的问题。当芯片的关键尺寸减小到0.18μm时,栅氧化层变得更薄,对等离子体的损伤也变得更加敏感。所以如何改善PID也成为这款芯片能否成功量产的重要攻坚对象。这一失效来源于接触孔阻挡层的改变,于是将改善PID的重点放在接触孔蚀刻阻挡层之后即后段工艺上。后段的通孔蚀刻及钝化层的高密度等离子体淀积会产生较严重的等离子体损伤,因此如何改善这两步工艺以减少等离子体损伤便成为重中之重。文中通过实验验证了关闭通孔过蚀刻中的磁场以及减小钝化层的高密度等离子体淀积中的溅射刻蚀功率可以有效改善芯片的等离子体损伤。通过这两处的工艺优化,使得PID处于可控范围内,保证了量产的芯片质量。
简介:摘要随着社会的发展,我国的教育水平的发展也日新月异。小学语文课堂是学生进行语言学习,培养语文学习兴趣的重要地方。随着教育改革的不断深化,对于小学语文课堂提出以学生作为主体,引导学生进行自主、探究、合作的学习方式,以此来调动学生对学习的积极性。作为小学语文课,它本身是语言学习的一门课程,在小学阶段主要是完成对常见字的认知、使用拼音、有对文章的基本理解能力、作文写作的基本能力等。语文课教学效率关乎到学生在一节课堂中对知识的接受和掌握程度,也体现了教师在进行课堂教学对语文课内容的把握和重点知识的讲解是否透彻的表现,因此提高语文课堂教学效率是每个小学语文教师必然会面临的问题。在课堂教学质量要求不断地提高下,教师应该怎么将自己的教学任务和教学内容在一节短短的45分钟的语文课教学来提高课堂的教学效率呢,这是本文探讨的关键部分。