简介：Geepilayersofdifferentthicknessesaregrownbymolecular-beamepitaxywithSbasasurfactantonSI(100)substrates,X-raydiffractionillustratesthattheseGethinfilmsarepartiallystrained.andthestrainsdecreasegraduallywithincreasingepilayerthickness,RamanspectrarevealadownwardshiftoftheGe-Gemodepeakastheepilayerthicknessincreases.Intheregionsofhighstrain,therelationshipbetweentheRamanshiftofthismodeandthestraininthepartiallyrelaxedsamplesisconsiderablydifferentfromthelinearrelationshipreportedbefore,whichismainlyattributedtothespatialconfinementeffectofphononsinananocrystal.

简介：

简介：利用同步辐射掠入射和常规X射线衍射，对Si(001）衬底上自组织生长Ge量子点组分和应变进行了研究。结果表明量子点为50％应变驰豫的GeSi合金量子点，其Ge组分为0．55。此外在掠入射X射线衍射Si(220）峰的高角旁观察到另外一个峰，对应于量子点周围衬底中由成岛引起的压应变。

简介：低温下用MBE方法生长了Ge／Si超晶格。X射线近边吸收限精细结构研究表明，Ge与Si再Ge／Si界面处存在化学混合。X射线反射及横向散射研究表明，Ge亚层上下表面的粗糙度呈反对称，下表面大的粗糙度来源于Ge向Si亚层中扩散形成SiGe混合组分结构：这种组分结构可以用一平均成份的SiGe合金层加以拟合，从而使得各亚层均有一个合理的粗糙度。旋转样品进行的X射线散射研究表明，这种SiGe的混合是各向同性的，这与透射电子显微镜的研究结构相一致。

简介：Moleculardynamics(MD)simulationswereperformedtoinvestigateF+continuouslybombardingSiCsurfaceswithenergiesof100eVatdifferentincidentanglesat300K.Thesimulatedresultsshowthatthesteady-stateuptakeofFatomsincreaseswithincreasingincidentangle.Withthesteady-stateetchingestablished,aSi-C-Freactivelayerisformed.ItisfoundthattheetchingyieldofSiisgreaterthanthatofC.IntheF-containingreactionlayer,theSiFspeciesisdominantwithincidentangleslessthan30o.Forallincidentangles,theCFspeciesisdominantoverCF2andCF3.

简介：GaInP/GaAs/Getriple-junctionsolarcellswereirradiatedwith50keVand100keVprotonsatfluencesof5×1010cm-2,1×1011cm-2,1×1012cm-2,and1×1013cm-2.Theirperformancedegradationisanalyzedusingcurrent-voltagecharacteristicsandspectralresponsemeasurements,andthenthechangesinIsc,Voc,Pmaxandthespectralresponseofthecellsareobservedasfunctionsofprotonirradiationfluenceandenergy.Theresultsshowthatthespectralresponseofthetopcelldegradesmoresignificantlythanthatofthemiddlecell,and100keVproton-induceddegradationratesofIsc,VocandPmaxarelargercomparedwith50keVprotonirradiation.

简介：

简介：

简介：

简介：本文在分析了北京同步辐射室4B9B原束线低能分支的构造及弊病后，在不影响束线高能分支性能及总体机械结构的基础上提出了改进方案。文中不仅详细介绍了该设计方案，同时也介绍了97年4月份专用光开始前夕的调试工作及出光后束线的性能测试工作，测试结果完全符合设计要求。该束线在这次同步辐射专用光实验中充分发挥了改进后的优势，取得了令人满意的结果。

简介：利用电子衍射，X射线衍射和荧光光谱等方法研究了LnBaB0O16(Ln=La,Y)的结构特性，LnBaB9O16为单斜晶系，其中LaBaB9O16的晶胞参数a=1.3660nm,b=0.7882nm,c=1.6253nm,β=106.15°,YBaB9O16的晶胞参数a=1.3476nm,b=0.776nm,c=1.6040nm,β=106.38°，荧光光谱研究表明，这两种化合物结构不同，Y^3+在YBaB9O16结构中处于中心对称格位，而LaBaB9O16中La^3+的格位则无中心对称性，Gd^3+部分取代LaBaB9O16:Eu^3+中的La^3+可改善Eu^3+离子的发光性质，LaBaB9O16:Eu^3+在真空紫外区的吸收比较弱，这可能与硼氧比较小有关。

简介：

简介：本文利用同步辐射角分辨光电子谱研究了f.c.c.Fe与Cu{111}之间的界面。观察到了位于表面布里渊区中K点附近的界面态，表明它是一个有序的界面。垂直出射的价带谱表明外来Fe原子对衬底Cu{111}的能带结构无任何影响。这与互混的Co/Cu{111}的结果不同，表明界面处不存在Fe与Cu原子之间的互混。

简介：

简介：ThisworkinvestigatedC2F6/O2/ArplasmachemistryanditseffectontheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kdielectricsin60MHz/2MHzdual-frequencycapacitivelycoupleddischarge.FortheC2F6/Arplasma,theincreaseinthelow-frequency(LF)powerledtoanincreasedionimpact,promptingthedissociationofC2F6withhigherreactionenergy.Asaresult,fluorocarbonradicalswithahighF/Cratiodecreased.Theincreaseinthedischargepressureledtoadecreaseintheelectrontemperature,resultinginthedecreaseofC2F6dissociation.FortheC2F6/O2/Arplasma,theincreaseintheLFpowerpromptedthereactionbetweenO2andC2F6,resultingintheeliminationofCF3andCF2radicals,andtheproductionofanF-richplasmaenvironment.TheF-richplasmaimprovedtheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kfilms,leadingtoahighetchingrateandasmoothetchedsurface.