简介:Amorphouscalciumphosphatenano-powdersmadefromradiofiequency(RF)plasmaspraying;Anadvancedmodelforplasmasprayingoffunctionallygradedmaterials;AnestimateofthetemperatureofsemitransparentoxideparticlesinthermalSpraying;BioactivityofPlasmaSprayedWollastoniteCoatingsinSimulatedBodyFluid
简介:[篇名]Aradiologicalfollow-upstudyofplasma-sprayedfluorapatite(FA)coatings,[篇名]ARamanStudyonPlasma-SprayedThin-realBarrierCoatingsDuringThermalCycling,[篇名]AbrasionandSlidingWearofNanostructuredCeramicCoatings,[篇名]Abrasionbehaviorinnanostructuredalumina-titaniacoatings,[篇名]Al{sub}2O{sub}3/YAGcompositecoatingpreparedbyplasmasprayprocess,[篇名]Aluminareinforcedstainlesssteelcoatingsbyplasmasprayingmechanofusedparticles,[篇名]Aluminumbasednanostructuredcompositecoatings:processingmicrostructureandwearbehavior.
简介:本文介绍等离子焊和MIG焊复合焊接工艺(SUPER-MIG系统)的技术背景、技术原理、系统构成和复合焊系统相对于MIG焊接工艺的五大优势,最后介绍了复合焊接系统的实际应用。
简介:为研究复合离子液体中电沉积制备Ir的工艺过程,探讨添加剂N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)对BMIC-BMIBF4复合离子液体黏度、电导率及电化学稳定性的影响,分析IrCl3在该复合体系中的电化学行为,并在不同电位下恒电位电沉积Ir层。采用扫描电镜及X射线衍射仪对沉积层形貌及组成进行表征。结果表明:DMAC的加入使复合体系的黏度降低、电导率升高、电化学稳定性提高;金电极上的循环伏安测试表明,Ir3+通过一步还原反应生成单质Ir的过程是受扩散速率控制的不可逆过程,其平均转移系数为0.170,扩散系数为1.096×10-6cm^2/s;SEM显示,在还原峰电位处可以获得较为致密、平整的Ir层,而XRD谱表明Ir层为多晶结构。
简介:在硅酸盐、磷酸盐、焦磷酸盐或其混合电解液中对锆-4合金进行等离子电解氧化。通过实验确定合适的工艺参数,并运用电化学技术、显微硬度、SEM、XRD等技术对膜层性能进行表征。结果表明:在纯的硅酸盐电解液中得到的膜层很不均匀,且在添加磷酸盐后,膜层均匀性仍然很差。在焦磷酸盐体系中得到的膜层比较均匀,但硬度低。在焦磷酸盐体系中添加硅酸盐后,膜层的均匀性和硬度都得到改善。XRD结果表明,膜层的主要成分为单斜氧化锆和四方氧化锆。添加硅酸盐后,有利于四方氧化锆的形成。极化曲线结果表明,在焦磷酸盐以及焦磷酸盐与硅酸盐混合体系中得到的膜层具有较强的耐蚀性。
简介:CVD金刚石可以用各种方法合成,其中晶粒生长速度最快的则为热等离子体CVD工艺。我们试验室过去曾试图用DC等离子体CVD工艺合成金刚石厚膜,并就膜与基底的附着强度和膜的性质作过探讨。但是,热等离子体工艺存在沉积面积和膜质量都不如其它CVD工艺等问题。CVD金刚石薄膜应用中对扩大沉积面积有着强烈的需求。本研究试图通过控制沉积压力、输入功率等沉积参数扩大等离子体直径,以沉积出大面积金刚石薄膜。我们的目的是利用热等离子体CVD工艺沉积出生长速度高、面积大且膜厚均匀的金刚石薄膜。同时探讨了合成条件对金刚石薄膜形状的影响。本研究得出的结果如下:(1)随着沉积压力的降低,金刚石晶粒尺寸减小,成核密度增加。金刚石的结晶性则几乎不受沉积压力的影响。(2)随着等离子体电流的增加,金刚石晶粒尺寸减小,成核密度增加。增加等离子体电流也可改善金刚石的结晶性。(3)降低沉积压力和增加等离子体电流均可扩大等离子体射流,但是金刚石沉积面积的变化并不明显。(4)随着沉积压力的降低和等离子体电流的增加,金刚石的结晶性均会增加。降低沉积压力和增加等离子体电流有利于改善金刚石薄膜的均匀性。