简介:CharacteristicsofsiliconoxynitridesmadebyECRplasmas;CharacterizationandcomparisonofPECVDsiliconnitrideandsiliconoxynitridedielectricforMIMcapacitors;CharacterizationofsiliconoxynitridethinfilmsdepositedbyECR-PECVD;Characterizationofsiliconoxynitridesandhigh-kdielectricmaterialsbyangle-resolvedX-rayphotoelectronspectroscopy
简介:[篇名]3-inchfull-colorOLEDdisplayusingaplasticsubstrate,[篇名]AsignificantimprovementinmemoryretentionofMFISstructurefor1T-typeferroelectricmemorybyrapidthermalannealing,[篇名]Accuratereliabilityevaluationofnon-uniformultrathinoxynitridcandhigh-klayers,[篇名]Advancedgatedielectricmaterialsforsub-100nmCMOS,[篇名]AINfilmscpitaxialyformedbydirectnitridationofsapphireusingaluminumoxynitridcasabufferlayer,[篇名]Amorphoussilicon-oxynitridcsubmicronfibres,[篇名]CharacteristicsofCr-Al-N-Othinfilmspreparedbypulsedlaserdeposition.
简介:面罩主体是供氧面罩中一个十分重要的橡胶件,其形状曲折复杂,厚度变化大,最薄处仅为0.7mm,面罩主体裙围需与人的脸部造型完全吻合。通过对面罩主体的形体分析,在裙边与裙围转接处存在着弓形高“障碍体”,橡胶模便采用了二次分型的方法,使得凸模与凹模及凸模与中模都能够分型,成型面罩主体型腔的中模,是一个大的凸台“障碍体”。面罩主体的脱模,是利用了硅橡胶面罩主体的弹性,采用了手工剥离或吹入压缩空气使其膨胀脱模的形式。在距凹模模腔0.2mm的沿周,制有1.5mm×90°的余胶槽,余胶进入余胶槽中形成飞边,凹槽边缘与型腔边缘所形成的0.20mm刃口,当面罩主体压制后脱模时,飞边能自动被刃口切落。模具结构的形式,实现了面罩主体顺利成型和脱模及飞边的处理。
简介:耳前,原子氧剥蚀效应研究仍然是空间环境效应研究中最活跃的方向之一。在概括地介绍低地球轨道环境的同时,分析了铝在原子氧环境中的氧化行为、氧化膜的形成机理和氧化铝膜的破裂等情况。基于离子溅射效应已经广泛应用在现代工业和科学研究中,分析当前溅射产额研究状况,采用半经验公式和TRIM程序计算铝被原子氧和离子氧轰击后的溅射产额和腐蚀速度,并与重离子He离子、Ar离子、Fe离子轰击Al的溅射产额比较;分析发现在原子氧环境中,离子对铝材料溅射同样满足溅射产额的变化规律;最后提出铝在原子氧环境中的防护方法。通过上述的分析和研究,得出了相关性的结论、展望和存在的问题。