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9 个结果
  • 简介:现今,我国核电建设规模不断扩大,核技术利用项目快速发展,其辐射防护尤显重要。其中在核与辐射建设项目辐射防护的设计和审评中,对剂量约束概念的应用,还存在很多误解。本文从剂量约束概念的引入、发展和建立,到剂量约束概念的意思、作用和应用范围,以及剂量约束概念和辐射防护相关概念的关系,进一步阐述对剂量约束概念的正确理解。

  • 标签: 辐射防护 剂量约束 剂量限值 水平
  • 简介:阻尼器注油及更换安装是主设备启动前的最后一道工序,保质保量按期顺利完成该项工作将为主工艺系统的启动达产提供有力保障。为此,针对工作初期阻尼器安装一次合格率较低这一问题,文章通过对数据的收集分析,发现问题的症结在于阻尼器垫圈沾油和翻边。运用头脑风暴法进行了原因分析,通过末端因素的逐一确认,得到三条主要原因,合理制定对策并逐步实施,最终将安装一次合格率从55.00%提高到了87.50%,确保了阻尼器更换安装节点目标的顺利实现。

  • 标签: 阻尼器 垫圈 电磁气动阀 压空 一次合格率
  • 简介:核电厂主设备阻尼器综合试验台架为核电厂蒸汽发生器、稳压器、主泵等主设备阻尼器实施动态和静态试验,文章对核电厂主设备阻尼器综合试验台架整体方案设计及主要系统进行了介绍。对执行元件和控制元件两类关键设备进行了详细的计算分析和选型。

  • 标签: 阻尼器 执行元件 控制元件 伺服阀
  • 简介:用X射线摇摆曲线和掠入射衍射、透射电镜、原子力显微镜等实验技术研究了MBE方法生长的Si缓冲生长温度对SiGe/Si异质结结构的影响。结果表明,所研究的SiGe外延晶格发生完全弛豫,但表面粗糙度和界面失配位错随Si缓冲的生长温度而变化,最佳生长温度为450℃;缓冲晶格应变是达到高质量SiGe外延的主要原因。

  • 标签: Si缓冲层 生长 温度 SiGe外延层结构 X射线 晶格
  • 简介:介绍了阻尼器在核电厂中的应用和分类,机械阻尼器和液压阻尼器的结构及工作原理,阐述了对核级阻尼器的相关要求,重点探讨了阻尼器制造的关键技术,展望了阻尼器在核电厂中的应用及其国产化前景。

  • 标签: 核电厂 阻尼器 模拟件 鉴定试验
  • 简介:利用同步辐射对合成金刚石晶体中面状缺陷进行了形貌学研究。在晶体中观察到多个错和一个由两个错三角形组成的错四面体。计算了错及错四面体各个边界的方向指数,确定了各个错的面指数。根据错的消像规律.确定了各个错的位移矢量。除一个错为Frank型简单层错外。其余错皆为既具有Frank位移,又具有Shockley位移的复合型错。分析了错的形成机理。错尺寸火小在0.68-1.15mm之间,是前人在合成及天然金刚石中从未见到的。

  • 标签: 合成金刚石晶体 层错 同步辐射 方向指数 位移 面状缺陷
  • 简介:本文采用多功能四圆X射线衍射仪测绘出立方相GaN/GaAs(001)外延的极图和倒易空间mapping,研究了六角相GaN和立方相微孪晶的取向、晶粒形状和极性等特征。结果表明外延中片状六角相与立方相之间的取向关系为:(111)//(0001)、<112>//<1010>。由于(111)Ga面的外延速度远高于{111}N面,导致较多六角相和立方相微孪晶在[110]或[110]方向上的(111)Ga面和(111)Ga面上形成,而在[110]或[110]方向上六角相和立方相微孪晶含量较低。外延中立方相微孪晶的含量明显低于六角相,表明六角相的形成可以更有效的释放局部应力集中。

  • 标签: 立方相 GAN 外延层 X射线四圆衍射分析 氮化镓 外延生长
  • 简介:利用双晶单色器和精密二圆衍射仪,在北京同步辐射装置建立了同步辐射X射线驻波实验技术,并用这一实验技术结合X射线衍射方法,研究了Si晶体中外延生长的超薄Ge原子的微结构。实验结果表明,由于Ge原子的偏析,在Si晶体样品中形成了共格生长的GexSi1-x合金,浓度平均值为X=0.13;650℃退火会使Ge原子向表面扩散,Si晶体中的合金消失,在晶体表面形成接近纯Ge的单原子

  • 标签: 同步辐射 X射线驻波实验技术 半导体超薄异质外延层 硅晶体 外延生长 超薄锗厚子层