简介:Ahighlyreliableinterfaceofself-alignedbarrierCuSiNthinlayerbetweentheCufilmandthenano-porousSiC:H(p-SiC:H)cappingbarrier(k=3.3)hasbeendevelopedinthepresentwork.Withtheintroductionofself-alignedbarrier(SAB)CuSiNbetweenaCufilmandap-SiC:Hcappingbarrier,theinterfacialthermalstabilityandtheadhesionoftheCu/p-SiC:Hfilmareconsiderablyenhanced.AsignificantimprovementofadhesionstrengthandthermalstabilityofCu/p-SiC:H/SiOC:Hfilmstackhasbeenachievedbyoptimizingthepre-cleanstepbeforecap-layerdepositionandbyformingtheCuSiN-likephase.ThiscaplayeronthesurfaceoftheCucanprovideamorecohesiveinterfaceandeffectivelysuppressCuatommigrationaswell.
简介:利用原子力显微镜,同步辐射X射线形貌术和化学腐蚀光学显微等方法深入研究了KTiOAsO4晶体缺陷中的铁电畴和位错。首次用原子力显微镜给出了用两种腐蚀剂腐蚀过的KTA晶体表面的铁电畴和位错蚀坑的照片及定量信息,如发现铁电畴的明区要高于暗区,且两者的粗糙度明显不同。这为研究各种晶体的生长缺陷开辟了一条新的途径。
简介:本文测定了在高压条件下两种金属(钙和锌)的8-羟基喹啉络合物的晶体粉末样品的发光行为和原位x-光衍射光说。结果表明,压力对其发光性质产生极大的影响。随着压力的增加,8-羟基喹啉钙的发光强度在3GPa以内时大大增加。随后发光强度快速下降,到7GPa左右时几乎为零。而8-羟基喹啉锌的发光随压力的增加而逐渐降低,到7GPa左右时常压的10%。高压下的原位x-光衍射结果表明8-羟基喹啉钙的晶体在3-4GPa开始发生非晶化相变,在7GPa时该非晶化相变完成,样品的x-光衍射完全消失。而8-羟基喹啉锌在压力的作用下(至16GPa)没有发生明显的相变。