简介:利用TCAD仿真技术,研究了电离总剂量辐射陷阱电荷对0.18μmN沟道MOSFET转移特性的影响.构建了0.18μmN沟道MOSFET的三维仿真结构,获得了在电离总剂量(totalionizingdose,TID)效应影响下,负栅压偏置时器件中电流密度的分布情况.分析了器件浅槽隔离层(shallowtrenchisolation,STI)中氧化物陷阱电荷和界面态陷阱电荷对器件泄漏电流的影响.仿真计算了N-MOSFET的转移特性,仿真结果与辐照试验结果受辐照影响的趋势基本一致,为深亚微米MOS器件的总剂量辐射效应的损伤机制提供了一种分析手段.
简介:摘要:混凝土沟道一次浇筑成型技术相比传统工艺(二次浇筑),简化了工序、缩短了工期,有效的避免了传统方法二次浇筑时施工缝处有渗漏隐患的弊端,大大提高了沟道性能,在地下水位交浅的施工环境中尤为使用,值得推广。
简介:DynamicCurrentSharinginParalelingPowerMOSFET①WANGBaocheng,WUWeiyang,ZHANGChunjiang(YanshanUniversity,Qinhuangdao066004,CHN)Ab...