简介：<正>台积电CEO兼董事长张忠谋近日在加州圣何塞的一次技术会议上表示,台积电将会和整个半导体产业一起,向14nm以下的制造工艺进军。张忠谋认为,2011-2014年间的全球半导体市场的发展速度不会很快,原因有很多,其中之一就是受摩尔定律制约,技术发展的速度会趋于缓慢。张忠谋表示,2xnm时代眼下很快就要到来,1xnm时代也会在可预见的未来内成为现实,而台积电或许无法在他的任期内走向1xnm,但肯定会竭尽全力将半导体制造技术带向新的水

简介：<正>由半导体研究公司(SemiconductorResearchCorp.,SRC)所资助的一个研发团队日前宣布,已经开发出一种新颖的自组装技术,该技术之前仅在实验室进行实验,但现在已经能针对14nm半导体工艺完善地建立所需的不规则图案了。藉由解决芯片微缩过程中一项艰难的光刻挑战—即连接半导体和基板的微型接触过孔—这些斯坦福大学(StanfordUniversity)的研究人员展示了一款22nm的实作电路,声称可朝14nm转移,而且还能直接朝10nm以下节点发展。

简介：文中简要介绍了对手术腔镜进行清洗、消毒灭菌操作的重要性,具体操作方法,以及清洗过程中应注意的事项.

简介：本文介绍了一种新型光放大器--垂直腔半导体光放大器的产生背景、工作原理、性能特点及系统装置,并与当前几种热门的光放大器做比较,进一步说明它所具有的独特优点及在下一代光通信网络和光信息处理中的应用优势.

简介：市场研究单位YoleDeveloppement（Yole）指出，碳化硅（SIC）电力电子产业发展具高度潜力，包括ROHM,Bombardier,Cree,SDK,STMicroelectronics,In-fineonTechnologies,Littelfuse,Ascatron等厂商都大力投入。Yole预测到2023年SiC功率半导体市场规模预计将达14亿美元，2016年至2023年间的复合成长率（CAGR）为28％，2020～2022年CAGR将进一步提升至40％。

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简介：CIC滤波器作为一种高效的多采样器件，具有低通滤波的作用。它仅利用加法器、减法器和寄存器（无需乘法器），实现简单、成本低且速度高，因此被广泛应用。文章介绍了一种2～63倍内插率可编程的14位CIC内插滤波器的结构和特性，讨论了在设计中应注意的溢出保护、CIC通带补偿等问题。

简介：<正>今日的半导体行业正在经历着若干充满挑战性的转型过程,不过这也为Soitec为市场与客户创造新增加值带来了巨大机遇。随着传统的CMOS技术的日薄西山—这一点从28nm巨大产量与20nm缺乏吸引力的规格与成本就可以看出,整个半导体产业的发展方向正在转向全耗尽晶体管架构。然而,如果FinFET和其他全耗尽多栅架构只能从14nm开始供货的话,在这之前我们又应当怎样应对呢?早在数年之前,Soitec及其合作伙伴就在开展紧

简介：垂直腔面发射激光器作为近凰年来光电子学领域研究的热点课题之一，要想很好的研究其应用价值，就必须了解它的各种特性。本文分析总结了垂直腔面发射激光器的阈值特性、光输出特性、模式特性、调制特性、偏振特性、远场特性以及热阻效应。

简介：溴化锂吸收式制冷机作为一种无污染制冷设备,在各行业被广泛使用,广大用户也逐渐积累丰富的维护保养经验,比如蒸发器、吸收器、冷凝器管程污垢的定期清洗已得到用户的重视。但对于溴化锂溶液内腔及蒸发器、吸收器、冷凝器壳程污垢的清洗由于溴冷机结构的特殊性,往往被用户忽视。

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简介：垂直腔面发射激光器（VCSEL）的偏振光随着电流的不同，出光的方向会发生变化。VCSEL注入电流在大于阈值时由于在谐振腔中存在微小的各向异性，使得光谱的单色性大大降低，这可能会导致VCSEL通信网络质量的下降，这就要求我们在设计和生长VCSEL时尽量减小腔内的各向异性。我们利用一套实验装置，在不同的注入电流下测量了VCSEL偏振光的光谱，从中得出VCSEL的一些光谱特性。

简介：系统的介绍了ZJL02型管路清洗机的构造、用途和使用方法,该工艺装备适用于铁路机车车辆、汽车、消防车、石油机械、化工设备等行业.投入使用后能使机械净化工艺创新,整体机械设备的内在质量能大幅度提高,有利于环保事业,性能价格比突出.

简介：光纤F-P滤波器在通信及传感等领域具有重要作用,文章对光纤多腔F-P滤波器的结构和性能进行了分析,主要讨论了级联F-P腔对光纤F-P滤波器性能的改善作用.