简介：1、前言玻璃布所以能引起人们的重视是与玻璃布本身所具有的优点分不开的，如抗拉强度高、延伸率小、耐高温、不燃、化学稳定性好、吸湿率低、电绝缘性能优良，因此在许多工业生产中应用，成为不可缺少的新型材料。它的缺点是脆性大、耐折揉性和耐磨性差、表面光滑、织物易变形、手感硬、纤维表面易吸附水分等，因此，有些制品就必须进行表面处理以改善或提高其性能。

简介：四川玻璃纤维有限责任公司投产1．2亿元（RMB）、计划引进180多台国际一流的喷气织机及全套后处理设备、年产3600万米2116电子布工程项目将于近日内全面开工。该项目建成后，公司的电子布总产能可接近8000万米。（危良才报道）

简介：据有关资料介绍，日本板玻璃公司研制成功一种以SI02和b203为主的新型覆铜板用玻璃纤维成分，其介电常数不大于4-5。这种新型玻璃成分的覆铜板用玻璃纤维布与低介电常数的有机纤维——聚醚醚酮、聚醚酰亚胺、及聚砜等热塑性树脂纤维混纺或混织而成的玻璃纤维基布，有可能成为高级电子计算机用印制电路板的基材。

简介：国外废金属主要分布在工业发达国家。按产生分布地区划分，大体可分为北美地区（美国、加拿大），欧洲地区（欧共体），东南亚地区（日本、韩国、台湾），俄罗斯及澳洲几大部分。

简介：Mimosa铂矿山面临战略和经营的转变，不过机构称，矿山可能即将被Sibanye黄金公司以2．94亿美元收购。

简介：

简介：TiO2nanoparticleswithdifferentphasesarepreparedbyhydrolysisoftitaniumtetrabutoxideinthepresenceofHCl.ThecompositionandmicrostructureoftheresultingsamplesarestudiedbyXRDandTEM.TheseresultsshowthattherangeofparticlesizeofTiO2isfrom20to30nm.ThemechanismofTiO2photocatalysisreactionhasbeendiscussedextensively.PhotocatalyticactivitiesofnanometerTiO2arealsoevaluatedbydegradationofthecrystalvioletsolution.ExperimentalresultsindicatethatthesynergisticactionofH2O2andultrasonicwavegreatlyenhancesphoto-catalyticreactionofTiO2.

简介：玻璃纤维由于它的介电常数高和损耗大，通常只作为普通印制电路基板的增强材料。本文介绍了可用于微波电路基板的低介性能（εr2．35，Dk0．00007）的新型增强纤维-环烯烃共聚物纤维及其应用。通过将环烯烃共聚物纤维与玻璃纤维结合在独特的混合布中制成εr3．08，Dk0．013印制电路板基板；将混合布中环烯烃共聚物纤维熔化构成树脂的一种成分，制成εr3．25，Dk0．0013印制电路板基材；通过将含环烯烃共聚物纤维的混织布涂上独特的低介电树脂制成εr2．8，Dk0．0009印制电路板基材的试验，表明环烯烃共聚物纤维是适应当今电子技术发展要求，制作优异介电性能印制电路基板的新型增强材料，用环烯烃共聚物纤维可制出比目前最好的低介电基材质量更轻、介电性能、机械性能更有竞争力的基材。

简介：近年来，由于半导体技术的进步，以及以计算机、移动电话为代表的电子产品的轻薄短小化、高速化的发展，要求它们所用的多层板更趋于向基板层间的薄型化、导通孔的窄间隔化、电路图形的微细化。并需要这些性能能够同步并进，共同提高。

简介：Iron(Ⅲ)-dopednanostructureTiO2-coatedSiO2(TiO2/SiO2)particleswerepreparedusingthelayer-by-layeras-semblytechniqueandtheirphotocatalyticpropertywasstudied.TiO2colloidsweresynthesizedemployingthesol-gelmethodwithTiCl4asaprecursor.ThesampleswerecharacterizedbyFouriertransforminfraredspectroscopy(FTIR),SEM,EDS,XPS,andXRD.TheexperimentalresultsshowthatTiO2nanopowdersonthesurfaceofSiO2particlesarewelldistributed,theamountofTiO2isincreasedwiththeaddingofcoatinglayers,thepureanatase-TiO2coatinglayersaresynthesizedat500°C,andthephotocatalyticactivityofFe3+-dopedTiO2/SiO2ishigherthanthatofundopedTiO2/SiO2.

简介：Nb-24Ti-18Si-2Al-2Hf-4CrandNb-24Ti-18Si-2Al-2Hf-8Cralloyswerepreparedbyarcmeltinginawater-cooledcrucibleunderargonatmosphere.Microstructuralcharacteristicsandoxidationresistanceofthealloysat1250℃wereinvestigated.Theresultsshowthat,whentheCrcontentis4at%,themicrostructuresconsistof(Nb,Ti)_(ss)andNb_5Si_3;asCrcontentincreasesto8at%,C14LavesphaseCr_2Nbisformed.Theisothermaloxidationtestsshowthattheoxidationkineticsofthetwoalloysfollowsimilarfeatures.Theweightgainsofthetwoalloysafteroxidationat1250℃for100hare235.61and198.50mg·cm~(-2),respectively.Duringoxidation,SiO_2,TiO_2,Nb_2O_5andCrNbO_4areformedatfirst.Then,Ti_2Nb_(10)O_(29)isformedafteroxidationfor20minandbeginstochangeintoTiNb_2O_7astheoxidationproceeds.SiO_2isformedassolidstateatfirstbutlaterevolvesintoglassystatetoimprovethecohesionofthescale.Afteroxidationfor100h,oxidationproductsconsistofSiO_2,TiNb_2O_7,Nb_2O_5andCrNbO_4.

简介：ＥｌｅｃｔｒｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎＭｅｃｈａｎｉｓｍｏｆＴｕｎｇｓｔｅｎｉｎＭｏｌｔｅｎＫＦ－Ｂ＿２Ｏ＿３－Ｋ＿２ＷＯ＿４ＷｅｎＺｈｅｎｈｕａｎａｎｄＬｉＧｕｏｘｕｎ文振环，李国勋（ＧｅｎｅｒａｌＲｅｓｅａｒｃｈＩｎｓｔｉｉｕｔｅｆｏｒＮｏ...

简介：由于电子产品的轻、薄、短、小、高密度组装，促使印制电路板迅速向多层、超多层方向发展，以“薄”为特点的封装用基板也成为印制板用新型覆铜板的一大热点。这一切又都离不开薄型、极薄型与超极薄型电子布。

简介：介绍一种金属/合金的生产方法,用于恒电流和恒电位条件下由混合硫化物(Cu2S,NiS)生产Cu-Ni合金,称为直接电化学还原(DER)。研究槽电压和槽电流等工艺参数对还原得到的化合物组成的影响,以生产工业所需的CuNi10,CuNi20和CuNi30等合金。在1200°C下采用循环伏安法(CV)考察Cu2S和NiS在CaCl2熔体中的电化学行为。根据CV研究结果,Cu2S的阴极还原是一步完成的,即Cu2S?Cu;NiS的阴极还原则分两步进行,即NiS?Ni3S2?Ni。恒电流研究表明,在10A电流下电解15min,可制备出最高硫含量为320×10-6的高纯CuNi10合金。扫描电子显微镜以及能量色散X射线能谱和光学发射光谱(OES)测试结果表明,在2.5V电压下直接电化学还原15min,可制备出杂质含量低(即硫含量小于60×10-6)的所选成分的Cu-Ni合金。

简介：本文采用磁粉、X射线、CT和超声等无损检测和金相分析等方法对40CrNi2Si2,MoVA钢制零件的磁痕显示进行了系统分析。研究认为，40CrNi2Si2MoVA钢制零件的磁痕显示为显微成分沿变形方向偏析导致的马氏体转变点Ms差异所致。显微成分偏析是钢锭结晶过程中不可避免的，但可通过优化熔炼工艺参数降低显微偏析的程度。本文还分析了四种磁痕显示的类型及其判别方法。

简介：Themetal-organicchemicalvapordeposition(MOCVD)techniqueisapromisingprocessforhigh-temperaturesuperconductorYBa2Cu3O7-δ(YBCO)preparation.Inthistechnique,itisachallengetoobtainbariumprecursorswithhighvolatility.Inaddition,thepurity,evaporationcharacteristics,andthermostabilityofadoptedprecursorsinwholeprocesswilldecidethequalityandreproducibleresultsofYBCOfilm.Inthepresentreport,bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)barium(Ⅱ)(Ba(TMHD)2)wassynthesized,anditsstructurewasidentifiedbyFTIR,1HNMR,13CNMR,andESI-MSspectroscopy.Subsequently,thethermalpropertiesandthekineticsofdecompositionweresystematicallyinvestigatedbynonisothermalthermogravimetricanalysismethods.BasedontheaverageapparentactivationenergyevaluatedbytheOzawa,Kissinger,andFriedmanmethods,thevolatilizationprocesswasdiscussed,andallresultsshowthatBa(TMHD)2isunstableandhighlysensitivetothechangeoftemperatureduringthewholeevaporationprocess.Therefore,itisveryimportanttochoosesuitablevolatilizationtechnologyandconditionsforavoidingBa(TMHD)2break-down(orthermalaging)duringMOCVDprocess.Subsequently,thepossibleconversionfunctionisestimatedthroughtheCoats-Redfernmethodtocharacterizetheevaporationpatternsandfollowsaphaseboundaryreactionmechanismbythecontractingsurfaceequationwithaverageactivationenergyof118.7kJ.mol-1.

简介：在这份报纸，纺纱冰上的无磁性的Y离子的冲淡效果加重Dy2Ti2O7由红外线并且拉曼系列和磁化大小被调查。与温度弄软减少的异常声子在父母被发现并且冲淡除了之外，做的混合物，和Y能放松弄软声子233附近的红外模式?厘米<啜class=“a-plus-plus”>显示在纺纱冰材料联合的强壮的phononphonon的1,。当冲淡的水平不很高时，磁化大小表明无磁性的杂质严重地不处于扎根的状态影响纺纱冰规则。然而，大量冲淡提高混乱并且因为集体旋转扭动簇不再是可得到的，打破纺纱冰状态。

简介：起落架40CrNi2Si2MoVA钢螺桩在安装一段时间后发生了断裂。为确定螺桩断裂的原因，对断裂螺桩断口宏微观形貌、断裂螺桩及对比件的氢含量、材料的性能以及表面损伤等因素进行了检查，并对电镀工艺进行了评定。结果表明，裂纹主要起源于第一螺纹根部的机械损伤部位，源区以沿晶断裂特征为主，断裂件含氢量较高。综合分析认为。螺桩断裂性质为氢致延迟断裂，表面机械损伤对氢吸收和扩散的促进作用和40CrNi2Si2MoVA钢材料高强度所致的高氢脆敏感性是导致断裂的主要原因。

简介：通过基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,对MgCu2,Mg2Ca和MgZn2的力学性能和电子结构进行计算,计算所得晶格参数与实验值和文献值相吻合。合金形成热和结合能的计算结果表明,MgCu2具有最强的合金形成能力和结构稳定性。计算了MgCu2,Mg2Ca和MgZn2的弹性常数,推导了体模量、剪切模量、弹性模量和泊松比。结果表明,MgCu2、Mg2Ca和MgZn2均为延性相,MgCu2的刚度最大,MgZn2的塑性最好。通过对结合能和弹性常数的计算,预测了MgCu2、Mg2Ca和MgZn2的熔点。通过对态密度（DOS）、Mulliken布居数、电子占据数和差分电荷密度的计算,分析了MgCu2、Mg2Ca和MgZn2的结构稳定性和力学性能机制。最后,计算和讨论了3种金属间化合物的Debye温度。

简介：ItiswellknownthatthephotocatalyticactivityofTiO2thinfilmsstronglydependsonthepreparingmethodsandpost-treatmentconditions,sincetheyhaveadecisiveinfluenceonthechemicalandphysicalpropertiesofTiO2thinfilms.Therefore,itisnecessarytoelucidatetheinfluenceofthepreparationprocessandpost-treatmentconditionsonthephotocatalyticactivityandsurfacemicrostructuresofthefilms.ThisreviewdealswiththepreparationofTiO2thinfilmphotocatalystsbywet-chemicalmethods(suchassol-gel,reversemicellarandliquidphasedeposition)andthecomparisonofvariouspreparationmethodsaswellastheiradvantageanddisadvantage.Furthermore,itisdiscussedthattheadvancementofphotocatalyticactivity,super-hydrophilicityandbactericidalactivityofTiO2thinfilmphotocatalystinrecentyears.