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  • 简介:HDI(高密度互联)产品的发展已经进入了规模化的生产进程,但是HDI产品的制作工艺改进仍然是PCB业者不断讨论和极力推进的工作。作为HDI产品制作中的重要一环,激光盲钻孔的对位系统也是人们讨论的热点,无论是激光钻机供应商还是曝光机供应商,还有PCB制作的工程师,对此问题的探讨从来就没有停止过。本文就激光盲的开窗,激光钻孔靶位的选择以及实现的方法提出一些个人见解。

  • 标签: 激光钻孔 盲孔对位 盲孔的开窗 HDI
  • 简介:进入2014年,联想继23亿美元并购IBMX86服务器业务之后,又以29亿美元从谷歌手中并购摩托罗拉移动,一个月内联想共计52亿美元的并购对于联想究竟意味着什么?

  • 标签: 摩托罗拉 IBM 并购 联想 服务器 X86
  • 简介:技术简介:目前图像到图像的配准已经得到很好的研究和广泛的应用。然而,所有的图像配准的方法都有两个内在的缺陷:(1)图像到图像的配准受限于要配准的图像各自包含的信息,这里的信息指的是帧内图像在空间上变化,用以描述场景的视觉表现;(2)当图像是一个动态的场景中一系列静态图像时,仅当两幅图像是同时拍摄时,二者之间的配准才可行。然而,摄像机几乎不可能以如此高的时序精度完成同步。

  • 标签: 图像配准 视频序列 视觉表现 静态图像 摄像机 信息
  • 简介:本文介绍了WCDMA系统和GSM系统切换和小区重选的操作过程,分析了压缩模式对网络质量的影响,并对提高切换成功率提出了几点建议.另外,本文对切换相关的GSM网络升级和测量控制参数的设置也进行了讨论.

  • 标签: WCDMA GSM 系统间切换 小区重选 压缩模式 网络质量
  • 简介:LTCC基板互连金属化工艺技术是低温共烧陶瓷工艺过程中的关键技术,它直接影响陶瓷基板的成品率和可靠性。文章从影响互连金属化的因素出发,介绍了金属化通填充工艺及控制技术、金属化通材料热应力的影响、金属化通材料收缩率的控制等三方面技术,并给出了如下的解决方案。采用合适的通填充工艺技术和工艺参数;合理设计控制通浆料的收缩率和热膨胀系数,使通填充浆料与生瓷带的收缩尽量一致,以便降低材料的热应力;金属化通烧结收缩率的控制可以通过导体层的厚度、烧结曲线与基板烧结收缩率的关系、叠片热压的温度和压力等方面来实现。

  • 标签: 低温共烧陶瓷 金属化通孔 收缩率
  • 简介:随着科技日新月异的飞速发展,电子元器件的小型化、多高功能化。促使印制线路板向高层、细线宽线距、细通、特殊功能方向发展。虽然,目前的印制板厂家已经通过各种工艺的探索、试验,设备的更新,甚至是非常规线路板制作的设备设计,来适应现在高投入低回报的市场。纵观目前印制板的加工可以看出:印制板制造者们确实想方设法去满足现在设计者的各种需求而推出了应对印制板的高速发展的种种办法。但还是不能满足上游设计发展的需要。特别是近年来,线路板设计者又要提高布线秘度,还要考虑到加工成本。所以出现了在有限的面积内布设更多的线和。这样无疑是从原本已经生产成熟的多层板关系变成较为复杂的线路逻辑关系。线路的走线更为复杂,线距变得更为窄小、线宽变得更细。甚至已经明显的表现出过孔的设计已经影响到多层板各层之间的线路布设。这时不得不再想其他办法,所以就出现了盲和埋的设计和要求,这样就可以大大满足设计者的设计需求。设计者是很容易从各种软件中按线路逻辑要求设计出来,但线路板制作者可不是很容易就能制造出相对应的线路板来满足客户要求。这样无疑要增加价格昂贵的激光钻孔机、电镀化设备的更改、AIO扫描、图形电镀设备的更改。这样计算下来的各种费用,起码以得上千万。

  • 标签: 加工工艺 控制要点 印制线路板 设备设计 逻辑关系 线路布设
  • 简介:本文介绍了目前国内常用的油墨塞流程及方式。不同的塞流程与方式的选取,其所配套的设施条件与制作板件的质量、客户要求存在一定的差异,采用可调芯板网进行塞制作,具有较大的优越性,各PCB生产厂家可依据自身的设施条件与客户要求,灵活运用、科学选取油墨塞流程与方式,制作达到IPC标准与客户要求的塞板件,以满足客户不同层次的需要,达到节约成本的目的。

  • 标签: 绿油塞孔 PCB 芯板网 可调网 塞孔材料 丝印塞孔
  • 简介:曲率吸附机制在电镀填中扮演重要角色,其主要通过有机添加剂作用加速盲底部并抑制铜面及孔口电沉积速度,达到盲填充的目的。本文对曲率吸附机制及有机添加剂在填中的作用进行了详尽的剖析,最后得出添加剂的最佳配比,并对影响电镀填的因素进行归纳。

  • 标签: 填孔 曲率吸附机制 机理
  • 简介:随着印制电路板金属化孔径的越来越小,印制电路板壁电镀铜层空洞对产品合格率和整机使用可靠性的危害就越来越大。本文探讨了印制电路板壁电镀铜层空洞的成因,从而有的放矢地采取预防措施来提高印制电路板产品的合格率和整机使用可靠性。

  • 标签: 印制电路板 孔壁 电镀铜层 空洞
  • 简介:前言目前线路板的金属化制作中,有种方式黑化直接电镀。黑直接电镀它是将精细的石墨和碳黑粉浸涂在壁上形成导电层,然后直接电镀。首先将精细的石墨和碳黑粉均匀的分散在介质内即去离子水中,利用溶液内的表面活性剂使溶液中均匀分布的石墨和碳黑颗粒保持稳定,同时具有良好的润湿性能,使石墨和碳黑能充分被吸附在非导体的壁表面上,形成均匀细致的、结合牢固的导电层。

  • 标签: 直接电镀 表面活性剂 碳黑颗粒 蚀刻 产品 均匀分布
  • 简介:本文主要针对盲槽产品的制作流程及加工方法的控制作探讨,盲槽主要是利用已经钻好槽板和PP与另一张板进行压合形成。压合盲槽板时PP上所钻的槽大小设计/品质及PP本身流胶量严重影响成品盲槽的品质,本次主要以影响盲槽品质的几个因素作实验层别:PP槽大小分别比成品槽单边大0.4mm、0.6mm、0.8mm;PP厚度15mil3张;Pp铣槽时叠板数为6、9、12。结论:PP槽单边大0.8mm最优,15mil厚的PP铣板叠板数9张时铣出的PP压合后槽品质符合要求,叠板数越少铣槽的效果越好;介层总厚度相同时,PP选用的张数越少压合时流胶越少,盲槽形越好。

  • 标签: 盲槽孔 槽孔 叠板 设计 流程 控制
  • 简介:文章主要针对一种厚铜(≥60μm)产品的制作工艺进行研究,如何在将铜控制至≥60μm以上,而电镀面铜能有效控制在60μm以下,并进行顺利制作出精细线路。本次主要采用了全板加成、局部加成、全板加成+局部加成三种工艺分别进行试验测试评估,最终采用全板加成+局部加成相结合的工艺方法最佳,产品质量及可靠性均符合产品要求。

  • 标签: 厚孔铜 面铜厚度 电镀 精细线路 全板加成 局部加成
  • 简介:在半导体制造工业中,参数测试作为有效的对在线制品的监控手段,一方面反映了工艺线的工艺水平状况,另一方面它也是制造公司与设计公司之间进行沟通的主要依据。而对于新工艺研发来说,参数测量及分析更是整个研发过程中极其重要的一部分,及时准确的参数测量结果是产品工程师快速作出工艺研发方向的判断依据。因此,芯片参数测量分析的主要作用在于:在工业生产中得到大量的测量数据,用于评价工艺设备、半导体材料和电路结构,监视和控制工艺和器件参数的均匀性、重复性、协调性,分析工艺中存在的缺陷,诊断电路性能失常规律,预测成品率,预报可靠性信息等等。文章主要介绍了运用参数测试对在线工艺异常进行可靠性评估的方法。

  • 标签: 参数测试 可靠性 高温 应力
  • 简介:文章主要针对盲槽产品的制作流程及加工方法的控制作探讨,盲槽主要是利用已经钻好槽板和半固化片与另一张板进行压合形成。压合盲槽板时半固化片上所钻的槽大小设计/品质及半固化片本身流胶量严重影响成品盲槽的品质,本次主要以影响盲槽品质的几个因素作实验层别:半固化片槽大小分别比成品槽单边大0.4mm、0.6mm、0.8mm;PP厚度0.0375mm×3张;PP铣槽时叠板数为6、9、12。结论:半固化片槽单边大0.8mm最优,1.5mil厚的PP铣板叠板数9张时铣出的PP压合后槽品质符合要求,叠板数越少铣槽的效果越好;介层总厚度相同时,PP选用的张数越少压合时流胶越少,盲槽形越好。

  • 标签: 盲槽孔 槽孔 叠板 设计 流程 控制
  • 简介:随着三维叠层封装、MEMS封装、垂直集成传感器阵列以及台面MOS功率器件倒装焊技术的开发,硅通互连技术正在受到越来越广泛的重视和研究。文中叙述了几种硅通互连技术的制造方法,以及它们在三维封装、MEMS封装、高密度硅基板、垂直集成传感器阵列和台面MOS功率器件等方面的应用。最后,进一步阐述了硅通互连中几项关键技术的研究现状以及存在的挑战。

  • 标签: 硅通孔互连 三维封装 MEMS封装
  • 简介:简要概述了带有埋/盲厚铜箔多层印制板制作过程中的厚度控制要点和方法。

  • 标签: 厚铜箔多层板 厚度控制
  • 简介:介绍了—种快速填盲电镀铜工艺,镀液的基本墨目成和工艺条件是:CuSO4·5H3O210g/L,H2SO485g/L,Cl-50ng/L,湿润剂C(环氧乙烷与环氧丙烷缩聚物)(5-30)ml/L,整平剂L(含酰胺的杂环化合物)(3~16)ml/L,加速剂B(苯基聚二硫丙烷磺酸钠)(0.5-3)ml/L,温度23℃,电流密度1.6A/dm2,阴极摇摆15回/min或空气搅拌。研究了湿润剂C,整平剂L和加速剂B对盲效果的影响,结果表明湿润剂C与加速剂B用量对填效果影响较大,而整平剂L影响较小。加入适量的该添加剂体系到基础镀液中,常规的HDI盲(孔径100μm~125μm,介质厚度75um)在表面镀层厚度12μm-15μm时,可以实现填率大于95%,得到铜镀层的延展性和可靠性满足印制电路板技术要求。此外,本研究测定了该添加剂体系填过程,明确其药水爆发期在起镀的(15~20)min,而且爆发期期间内的沉积速度是表面的至少11倍。

  • 标签: 盲孔 添加剂 填孔率 爆发期