简介:用C3H6作为碳源气,Ar作为稀释气体和载气,TaCl5为钽源,采用化学气相沉积法(chemicalvapordeposition,CVD)在高纯石墨表面制备TaC涂层。采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)等对涂层进行表征,研究1000℃下稀释气体(Ar)流量对TaC涂层成分、织构及表面形貌的影响。结果表明:随着稀释气体流量增大,表面均匀性和光滑度提高,晶粒尺寸减小,晶体择优取向降低,沉积速率减小,涂层中C含量增多。当稀释气体流量为100mL/min时,TaC涂层晶粒尺寸与沉积速率分别为32.5nm和0.60μm/h;而当稀释气体流量增大到600mL/min时,涂层晶粒尺寸与沉积速率分别下降到21nm和0.25μm/h。
简介:摘要:本论文主要研究了压力容器表面和近表面缺陷的磁粉检测技术。首先,介绍了研究背景与意义,概述了磁粉检测技术在压力容器检测中的应用价值。接着,详细阐述了磁粉检测的基本原理和方法,包括磁化现象、磁粉堆积原理以及操作步骤和注意事项。在此基础上,分析了压力容器常见的表面和近表面缺陷类型及其产生原因,探讨了缺陷对压力容器安全性的影响。随后,重点探讨了磁粉检测技术在压力容器检测中的实际应用,包括针对不同类型压力容器的检测方案、实际操作中的技术要点与难点,以及检测结果的解读与评估。最后,论文提出了现有技术的不足与改进方向,并展望了磁粉检测技术的优化与创新趋势。本研究旨在提高磁粉检测技术在压力容器安全检测中的准确性和效率,为保障压力容器安全运行提供技术支持。