简介:ThephysicalandelectricalpropertiesofBF2+implantedpolysiliconfilmssubjectedtorapidthermalannealing(RTA)arepresented.ItisfoundthattheoutdiffusionofFanditssegregationatpolysilicon/siliconoxideinterfaceduringRTAarethemajorcausesofFanomalousmigration.FluorinebubbleswereobservedinBF2+implantedsamplesatdosesof1×1015and5×1015cm-2afterRTA.
简介:我们认识到NiCo2由激光照耀的O4nanomaterialsNiCo2有不同集中的O4暂停。结果表明同样准备的样品是有568nm和优异dispersity的最大的平均尺寸的需要的范围,它在0.30JDS的精力密度被获得)。Obwohl死ErkrankungenvieleGemeinsamkeitenaufweisen(Fiebersch浭湥慦獳湵?浉畭歮浯牰浯瑩楴牥湵?楢杲?浩敭?楥?牥???獥删獩歩????釧????????闧?郦????駥?釧?闦??駥?跧???闦?臧?臧????駥膹?郦?飧?蓦???釧?釧?蓦???跧?觧??跧?????觧?釧??闦??闦?觧?郧?闦???跧???釧????触?跧??趥觧?鷦??