简介:‘一、选择题(每小题2分.共4()分)1.计算(一tz’)!的结果是().(。4)n。(B)一n。(c)“’(D)一n52.不等式组琶■譬的解集是()_(。{)x>5(B).r>4(C)x<5(D)x<43.下面月捧}学记数法表示的各数中,正确的是().(。·I)0.008=8x】0。(B)}25000=12.5×】∥(C)一0.(X)(】016=一l,6xl(r(D)70(x】=3.7ד)。4.I-面的命题错误的足().({)等边:ffj彤垃锐『f{一角形{付)等恢---fiI形垃锐埔一ff】肜(f,)等也一『f1肜圮等性fnJ易(")f】·1、
简介:在本文中我们给出Hesenberg矩阵的行列式的—公式,它与计算六角系统的Kekule结构密切相关.更多还原
简介:在相同的反应体系中当ph值从约9.5调变至11时分别合成出双中孔SiO2和六方中孔SiO2材料,并用XRD、N2吸附、TEM、TG/DTA和FTIR等测试手段对合成产物进行了表征。实验结果表明,双中孔SiO和六方中孔SiO2是合成中必然出现的两种不同的中孔物相。与六方中孔SiO2相比,双中孔SiO2也具有典型中孔材料的特征XRD谱图,虽然仅呈现一个易让人产生不完全晶化误解的相对较宽的单XRD衍射峰(d=5.2nm),但它却给出一种独特的N2吸附等温线和窄的双峰中孔孔径分布曲线。由于孔壁的无定形及表面活性剂分子与SiO2骨架间相似的相互作用,两类材料给出类似的FTIR谱图和TG/DTA曲线。然而,在双中孔SiO2的FTIR谱图中960cm处峰强度的微小变化可能意味着在锻烧脱除模板剂后双中孔SiO2较六方中孔SiO2具有更高的骨架聚合度。更多还原